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實(shí)用性：

兼容：兼容MoNb/MTD/Ti等膜層。

便捷：一劑型，使用過(guò)程無(wú)需補(bǔ)液。

穩(wěn)定：壽命期間特性數(shù)據(jù)浮動(dòng)小。

經(jīng)濟(jì)性：原料國(guó)產(chǎn)化。

安全性：壽命終點(diǎn)狀態(tài)下可保持48h無(wú)升溫。

高壽命：將原5000ppm銅離子壽命提升至7000ppm，藥液用量降低 29%。

Gate/ITO一步刻蝕：實(shí)現(xiàn)銅/ITO一步刻蝕，釋放ITO刻蝕設(shè)備產(chǎn)能。

NW工藝：用濕法蝕刻N(yùn)+Asi替代干刻，釋放干刻產(chǎn)能。